電鏡鉑靶材 電鏡鍍膜用鉑靶材 Pt靶材 高純度鉑靶材 蒂姆新材料
| SnAgBi | 錫銀鉍合金 靶材 | 3N5 | Sn:Ag:Bi=64:1:35 at% | 磁控濺射設備 |
| NiCr | 鎳鉻合金 靶材 | 4N | Ni:Cr=1:1 at% | 磁控濺射設備 |
| NiAl | 鎳鋁合金 靶材 | 2N5 | Ni:Al=1:1 at% | 磁控濺射設備 |
| NiSi | 鎳硅合金 靶材 | 2N7 | Ni:Si=1:1 at% | 磁控濺射設備 |
| NiNb | 鎳鈮合金 靶材 | 3N5 | Ni:Nb=60:40 at% | 磁控濺射設備 |
| NiFe | 鎳鐵合金 靶材 | 4N | Ni:Fe=81:19 wt% | 磁控濺射設備 |
| MnCoNi | 錳鈷鎳合金 靶材 | 2N5 | Mn:Co:Ni=1.56:0.96:0.48 at% | 磁控濺射設備 |
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