氧化鋁顆粒，氧化鋁顆粒生產(chǎn)廠家，蒸發(fā)材料濺射基地Al2O3顆粒

　　氧化鋁粒，三氧化二鋁顆粒 三氧化二鋁純度99.99%，高純鋁顆粒，高純鋁片，AAO專用鋁箔片

　　化學符號：Al2O3

　　外 觀:透明

　　規(guī)格：1-3mm

　　純度：4N

　　密 度：4g/cm3

　　熔 點：2045℃

　　沸 點：2980℃

　　蒸發(fā)溫度：1800℃

　　蒸發(fā)方式：電子束

　　透明范圍/nm：200-7000

　　折射率n（波長/nm）：1.59(600)/1.56(1600)

　　基片溫度為300℃時，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59；

　　基片溫度為40℃時， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56；

　　蒸發(fā)源材料:W 、Mo

　　溶 解 于：純酸、堿

　　薄膜的機械和化學性質(zhì)：形成光滑的硬膜

　　性 能：高純氧化鋁具有耐腐蝕、耐高溫、高硬度、高強度、抗磨損、抗氧化、絕緣性好和表面積大等特點；不溶于水，微溶于強酸和強堿溶液，并能被*和硫酸氫鉀浸蝕；

　　高純超細氧化鋁的優(yōu)點：純度高、粒徑小、密度大、高溫強度大、耐蝕性和易燒結(jié)；

　　應(yīng) 用：增透膜，多層膜，防反膜，眼鏡膜，保護膜

　　用 途：廣泛應(yīng)用于生物陶瓷、精細陶瓷、化工催化劑、稀土三基色熒光粉、集成電路芯片、航空光源器件、濕敏性傳感器及紅外吸收材料；

　　Al2O3膜的主要性能：

　　密 度/g？cm-3:3.1-4.0

　　電 阻 率/Ω？cm：1012-1013

　　折 射 率：1.72-1.76

　　禁帶寬度eV：7

　　介電常數(shù)：7.5-9.6

　　產(chǎn)生龜裂厚度/μm:0.4

　　介電強度/V？cm-1:1×106-7×106

　　表面負電荷密度：3×1011-1012

　　紅外吸收峰/μm:14-16

　　Al2O3-Si界面密度/（cm2？eV）-1: 1010-1011

　　Al2O3分析報告:

　　Mn Cr Pb Ni V Nb

　　0.003 0.001 0.001 0.001 0.001 0.0001

　　Co Ta

　　0.001 0.001