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光譜儀ICP 2000 磁性材料 測鐵鈷鎳鉛鋅 等雜質(zhì)

產(chǎn)品二維碼
參  考  價:¥ 258
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 產(chǎn)品型號:Plasma 2000
  • 品牌:
  • 產(chǎn)品類別:光譜儀
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 樣本:
  • 更新時間:2023-06-24 13:18:20
  • 瀏覽次數(shù):13
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  • 經(jīng)營模式:其他
  • 商鋪產(chǎn)品:848條
  • 所在地區(qū):
  • 注冊時間:2023-06-24
  • 最近登錄:2023-06-24
  • 聯(lián)系人:鄒經(jīng)理
  • 電    話:15622269186

產(chǎn)品簡介

用途:磁性材料有測鐵鈷鎳鉛鋅等雜質(zhì)  --------------------------------------------------------  一、ICP(Plasma2000)電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀  可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析

詳情介紹

  用途磁性材料有測鐵鈷鎳鉛鋅等雜質(zhì)

  --------------------------------------------------------

  一、ICP(Plasma 2000)電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀

  可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

  (ICP-AES)技術(shù)由于其存在檢出限低、測量的動態(tài)范圍寬、準(zhǔn)確度好、基體效應(yīng)小、精密度高等一系列優(yōu)點(diǎn),是近年來發(fā)展迅速、應(yīng)用極為廣泛的一種光譜測試技術(shù),Plasma2000具有波長范圍寬、分辨率高、測試速度快、穩(wěn)定性好等特點(diǎn),可用于地質(zhì)、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、醫(yī)藥衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、農(nóng)業(yè)、食品、商檢、水質(zhì)等各領(lǐng)域及學(xué)科的樣品分析。

  

  二、儀器特點(diǎn):

  中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),徑向觀測,具有穩(wěn)健的檢測能力。

  高效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

  高速面陣CCD采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,真正實現(xiàn)“全譜直讀"。

  功能*的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

  三、技術(shù)參數(shù):

  1、光學(xué)系統(tǒng)參數(shù):

  光柵:中階梯光柵,52.67g/mm,閃耀角63.5°

  棱鏡:超純SiO2材料

  分析譜線范圍:165nm-900nm

  焦距:400mm

  分辨率: ≤0.008nm@200nm

  雜散光:10000μg/ml的Ca溶液在As189.042nm處的等效背景濃度<2ug/ml

  光室恒溫:高精度恒溫38℃±0.1℃

  光室充氣:多點(diǎn)充氣技術(shù),小流量吹掃1L/min,大流量吹掃4L/min

  2、進(jìn)樣系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):

  儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含*等樣品的測試。

  使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護(hù),轉(zhuǎn)換快速,使用成本低。

  使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,流量連續(xù)可調(diào),保障測試性能長期穩(wěn)定。

  4通道12滾輪蠕動泵,泵速連續(xù)可調(diào),確保樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性,具有快速清洗功能。

  炬管方向:垂直放置

  炬管線圈:3匝

  炬管:一體式炬管,中心管可選0.8mm、1.5mm、2.0mm(石英或陶瓷)。

  霧化器:同心霧化器或平行通道霧化器,外徑6mm,可選標(biāo)準(zhǔn)霧化器、高鹽霧化器、*霧化器.

  霧室:旋流霧化室,可選配雙筒型霧化室和耐HF霧化室。

  蠕動泵:4通道12滾輪,轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)。

  氬氣消耗量:12L/min~18L/min

  冷卻氣:0.00L/min~20.00L/min,精度0.01L/min,高精度質(zhì)量流量控制器

  輔助氣:0.00L/min~2.00L/min,精度0.01L/min,高精度質(zhì)量流量控制器

  載氣:0.00L/min~2.00L/min,精度0.01L/min,高精度質(zhì)量流量控制器

  3、RF發(fā)生器技術(shù)參數(shù)

  全固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小、效率高,全自動負(fù)載匹配,速度快、精度高,能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測試,具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

  冷錐消除尾焰技術(shù),大程度地降低自吸效應(yīng)和電離干擾,從而獲得更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景,拓寬儀器檢測范圍,保證準(zhǔn)確的測量結(jié)果。

  垂直炬管的設(shè)計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。

  簡潔的炬管安裝定位設(shè)計,快速定位,精x確的位置重現(xiàn)。

  具有低功率待機(jī)模式,待機(jī)時降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運(yùn)行,節(jié)約使用成本。

  實時監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場總線,保障通訊高效可靠

  1、輸出功率:700W-1600W連續(xù)1W可調(diào)

  2、功率穩(wěn)定性:≤0.1%

  3、震蕩頻率:27.12MHz

  4、頻率穩(wěn)定性:≤0.01%

  5、匹配方式:自動匹配

  6、電磁場泄露輻射強(qiáng)度 lt;0.5V/m

  4、檢測器技術(shù)參數(shù):

  大面積背照式CCD檢測器, 全譜段響應(yīng),高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動態(tài)范圍和極快的信號處理速度。

  一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。

  同類產(chǎn)品中大靶面尺寸,百x萬級像素,單像素面積24μm X 24μm,三級半導(dǎo)體制冷,制冷溫度-35℃,具有極低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

  檢測器:背照式CCD檢測器,抗飽和溢出

  像面尺寸:25.4mm x 25.4mm

  CCD像素:1024x 1024

  單像素面積:24μm x 24μm

  波長響應(yīng)范圍:120nm~1100nm

  量子化效率:無鍍膜,量子化效率可達(dá)75%以上

  檢測器冷卻:高效半導(dǎo)體制冷,制冷溫度<-35℃

  分析性能:

  觀測方式:垂直火炬

  檢出限:亞ppb-ppb

  短期穩(wěn)定性:RSD≤0.5%(500LOD)

  長期穩(wěn)定性:RSD≤1.0%(2h,500LOD

  四、ICP使用注意事項:

  1.開關(guān)氣氬氣原則

  在啟動光譜儀前1小時打開氬氣瓶,分別調(diào)節(jié)兩瓶氣體使分壓表壓力到0.60-0.65Mpa,吹掃光室和 CID檢測器;在熄火后,不要馬上關(guān)掉氬氣,必須繼續(xù)開氣吹掃CID 20分鐘后才關(guān)掉氬氣瓶。

  2.定期清洗炬管

  一般在炬管變臟后(表面變黑)時須拆卸下來,用 8-10% 的稀硝酸浸泡2-3小時,然后用去離子水沖洗干凈,涼干裝上。

  3.定期更換冷卻循環(huán)水:

  經(jīng)常開機(jī)情況下,一般半年至一年需要對冷卻循環(huán)水進(jìn)行更換。

  4.樣品測定完成后,先用3-5%的稀硝酸沖洗2-3分鐘,然后再用去離子水沖洗2-3分種后熄滅等離子體,松開泵夾。

  5. 點(diǎn)火分析前確保驅(qū)氣時間大于1小時,以防止CID檢測器結(jié)霜,造成CID檢測器損壞。

  6. 定量測定時須在光室溫度達(dá)到并穩(wěn)定在38±0.2℃。CID溫度小于-40℃時,點(diǎn)火15分鐘后測定。

  7.檢查霧化器,看是否有堵塞現(xiàn)象,及時清潔霧化器、中心管。

  8. 定期更換泵管。

  9. 計算機(jī)專用。

  10. 未點(diǎn)火期間保持泵夾松弛。

  11.樣品必須清亮透明,否則容易堵塞霧化器;萬一霧化器堵塞,絕不能用金屬絲清理異物。

  12. 遇停氣熄火,應(yīng)立即更換上供氣,讓CID在常溫(20攝氏度左右)狀態(tài)下吹掃2-4小時后,方可重新點(diǎn)火分析測定。切不能,更換上新氣源后立即馬上點(diǎn)火分析。

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