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TFUV10

用于測量 200 nm 至 550 nm UV LED 總輻射功率的分光輻射計

• 雜散光光譜儀

• 100mm無熒光積分球、輔助燈和長效熒光還原燈

• 用戶重新校準系統的可選校準標準

測量 UVC LED 時的特殊性

紫外光輻射（UV 輻射）用于各種任務。它可用于改變材料的物理特性——輻射固化——或治療牛皮癬等皮膚病。水、空氣和固體表面用紫外線輻射消毒?？梢允褂米贤饩€輻射檢測多種氣體和生物分子。在紫外線輻射的人工輻射源中，紫外線 LED 正在成為迄今為止占主導地位的氣體放電燈的重要替代品。盡管 UV LED 技術還很年輕，但它正在快速發展，尤其是在 UVB 和 UVC 光譜范圍內。測量 UV LED 總輻射功率的經典儀器是帶有積分球的分光輻射計。

在設計用于 UV LED 的積分球光譜儀時，必須考慮準單色 LED 輻射的特性。LED 的單色紫外線輻射會導致積分球涂層發熒光，從而導致顯著的測量誤差，而這些誤差無法通過傳統的校正方法進行補償。Gigahertz-Optik 實驗室的研究證實，涂層和用于積分球的合成涂層在暴露于小于 250 nm 的 UVC LED 時都會發出熒光。這種熒光是由隨著時間推移沉積在積分球涂層上的有機分子引起的。當 UV-LED 輻射 <= 230 nm 激發時，熒光的輻射通量甚至可以達到 UV-LED 自身輻射功率的大小?？梢酝ㄟ^使用足夠的紫外線輻射劑量照射有機分子來降低熒光水平。因此，有機分子被破壞，熒光值降低到計量檢測極限以下。然而，這種措施沒有持久的效果，因為隨著時間的推移，額外的有機分子會積累。進1步的研究還表明，涂層的熒光比合成涂層少。此外，涂層的熒光減少具有更持久的效果。出于這個原因，與之前的指南相反，被推薦用作短波長紫外線測量應用的涂層材料。由于 Gigahertz-Optik 的 ODP97 涂層中的粘合劑劑量特別低，

借助 TFUV10-V01，Gigahertz-Optik 提供紫外光譜輻射計，用于測量 200 nm 至 550 nm 光譜范圍內 UVA、UVB 和 UVC LED 的輻射功率。該儀器提供此應用所需的所有特性和功能：

用于輻射通量測量的積分球

用于總輻射通量測量的光譜輻射計的入口光學元件是1個直徑為 100 毫米的積分球，輸入孔徑為 25.4 毫米。堅固的端口框架允許連接 LED 組件或可選的 2-Pi 校準標準。該標準允許用戶對系統進行現場重新校準。輔助燈用于補償被測器件引起的自吸收效應。球體涂層使用紫外線輻射進行預老化，這增加了涂層對紫外線輻射的長期穩定性，并將熒光效應降低到測量設備的檢測極限以下。為了抑制熒光，額外提供了1個紫外線燈，它可以有效和地抑制低于 250 nm 的 UVC 輻射激發的熒光。

高分辨率光譜儀

BTS2048-UV-2-F 是 BTS2048 系列的1部分，該系列已在從高速 LED 分檔到室外太陽輻射測量等各種要求嚴苛的應用中證明了自己。此類應用需要的精度和連續使用的可靠性。光譜輻射計直接連接到積分球上，不使用光導，提供 200 nm 至 550 nm 的光譜范圍，光譜分辨率為 1 nm。遙控濾光片增加了動態范圍。恒溫CCD的像素點可以同步置0。此功能提供了測量脈沖鏈內單個脈沖的可能性。

雜散光和暗信號

雜散光和暗電平偏移對采用 CCD 或 CMOS 陣列傳感器的紫外光譜儀的測量結果有顯著影響。

• 雜散光錯誤地照亮像素，從而產生不是由所需波長產生的測量信號。如果雜散光沒有得到適當的抑制，就不可能將 LED 的真實光譜與雜散光效果區分開來。BTS2048-UV-2-F 光譜儀通過集成光阱和濾光器提供創新的雜散光抑制。

• 暗信號的影響源于測量儀器的不同工作溫度和針對特定輻照度水平調整的積分時間。BTS2048-UV-2-F光譜儀的暗信號快門用于測量暗信號，用于未來測量的暗信號校正。

數據記錄儀

BTS2048-UV-2-F 由于其高靈敏度、*的電子設備和快速的接口（USB 2.0 和以太網）支持高測量重復頻率。它還用作記錄時間信號變化的數據記錄器。

1個完整的包

TFUV10-V01 為其預期用途提供了完整的包裝。隨附的軟件支持測量參數的設置和測量數據的評估。此外，它還允許控制系統的輔助燈。如果使用 Gigahertz-Optik 提供的可選校準光源之1，則用戶也可以使用該軟件進行系統重新校準。

工廠校準和 ISO/IEC/EN 17025 測試測量

Gigahertz-Optik 的測量實驗室為其 TFUV10-V01 工廠校準提供高質量和可追溯性。工廠校準在 Gigahertz-Optik 的校準實驗室中使用與 NMI 認可的測試測量相同的質量管理程序進行處理?？蛇x擇提供具有 ISO/IEC/EN 17025 測試證書的 NMI 認可的測試測量。

測量 BN-LDSF-2P 期間的 TFUV10-V01。

產品

TFUV10-V01

光譜輻射功率測量系統從 200 nm 到 550 nm。

TFUV10-V02

光譜輻射功率測量系統從 200 nm 到 430 nm。

LCR-20

用于平面樣品的手持式光反射儀

• 快速精確的測量

• 兩種測量幾何

• 使用監控檢測器進行自動校正以獲得精度

• 基于 UV LED 的光源

紫外線反射

紫外線反射是材料的1個重要參數，例如，紫外線消毒燈裝置的平面。當涉及到反射材料、墻壁顏色等的規格時，這1點尤為重要。

LCR-20紫外線反射測量儀

LCR-20 專為紫外光譜范圍內的表面光反射測量而設計。45° 和 0° 測量幾何形狀是可能的，該設備包括1個準直 UV 輻射源（基于 LED），帶有用于校正光源波動的參考檢測器和1個 UV-37xx 檢測器。使用特殊版本的多功能 X1 儀表直接測量、校正和評估信號。光源和儀表都使用電池運行。具有 USB 可充電鋰離子類型的光源之1。對于現場重新校準，可選的 ODM 參考標準用于 45°/0°（漫反射）的校準，而對于 45°/45°（鏡面反射）的重新校準，可選擇提供紫外線增強鏡。為確?？勺匪菪?，參考標準有兩個版本。1種帶有可溯源校準，另1種沒有校準。未經校準的版本在現場用作傳輸標準，其中相應的校準標準僅偶爾用于調整傳輸標準值。所有標準都在封閉的外殼中交付，以避免環境的外部影響。

用于徒手測量的測量裝置

基于集成 UV LED 的光源由參考傳感器跟蹤并動態校正。這允許在現場進行徒手測量，因為對光源的所有影響（如溫度、方向）都得到了校正。LCR-20 的特性之1是能夠輕松執行快速測量：

1. 源和 X1-5 V01 儀表的連接

2. 對于 0/45° 位置的漫反射測量，請使用可選的 ODM 參考進行重新校準

3. 對準測試樣品/表面

4. 開始測量

5. 顯示測量值

6. 對于 45°/45° 的鏡面反射測量，請使用鏡面反射校準標準并重復第 3 至 5 項

7. 對于全反射測量，將第 5 項（漫反射 + 鏡面反射）的兩個測量結果相加

可追溯的測量

我們為需要可追溯測量值的應用提供 ODM 反射標準。

測量幾何體 LCR-20

X1

LCR-20 光源帶探測器

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