工業顯微鏡

新的光學系統令 ECLIPSE煥發新風采

ECLIPSE 顯微鏡機身采用模塊化制造，可滿足多領域的工業應用，其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列經過不斷的發展*并配備了新的光學系統和功能，可根據觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射／組合照明模式以滿足任何應用需求。

CFI60-2 經過改進的光學性能

以的高數值孔徑和長工作距離設計理念而著稱的尼康 CFI60 光學系統

經過進一步改進，具有 的長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。

輕松的操作

與數碼相機集成 現可使用數碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進行電動操作，以更地進行觀察和圖像拍攝。

觀察方法

可支持多種觀察方法：明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量觀察功能。此外，LV100DA和LV100DA-U還可提供型微分干涉、暗場、偏光和相襯觀察功能。