應用范圍：
半導體、等離子體、環境和醫療。
產品簡介：
該機是廣泛用于半導體清洗的大功率真空紫外光源系統，它采用射頻激發氙氣產生158nm到190nm的真空紫外光，高能量紫外線可使化學殘留物分解成揮發性氣體二氧化碳、一氧化碳、水蒸氣等;190nm以下的真空紫外光使空氣電離產生臭氧，臭氧的氧化能力也可使化學殘留物氧化變成揮發性氣體，起到清洗的目的，對于物體表面最難清洗的油脂及有機污染物清洗效果;該機可靠性高，無需維護;標準產品帶有350 x 400 mm 的法蘭，光源口徑230 mm，可以根據用戶需要定制法蘭或光源口徑。
主要特色：
同普通實驗室用的真空紫外光源的主要區別在于其高功率和大輻照面積。
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