產品特點

配備自循環凈化裝置（UV-PLUS）的光學系統
SPECTROLAB的光學系統具有傳統光電管光學系統和CCD全譜光學系統的所有優點。采用優化帕邢—龍格原理的“半殼"鑄造鋁框架技術提供了超常堅固的機械結構，同時減小了內部容積。為減少外部環境的影響，光學系統內部恒溫恒壓。
主光學系統內部包括兩個光譜模塊—光電管光學部分和CCD光學部分，各自配備一個原級全息光柵。第三光學系統是一個空氣光學系統，將波長范圍擴展到780nm。自循環凈化系統（UV-PLUS）用于測量紫外波段（UV）和遠紫外波段（VUV）光譜。嚴格密封的光學室內部充以氬氣，無需復雜的技術可以實現紫外及遠紫外光在光學系統內不被吸收。分子薄膜泵驅動氬氣在光學系統內部和凈化裝置中循環。可以避免采用真空系統產生的油蒸氣污染或流動沖氣系統帶來的外部污染。保持潔凈的光學系統和長期穩定性表現。UV-PLUS的優點是較大程度降低了運行成本，并且在120-180nm的遠紫外光譜波段提供了出色的光學表現。
獨特的光學系統結構和UV-PLUS技術，使得創新的SPECTROLAB光學系統能夠記錄120-780 nm波段的所有的一級相關光譜信息，CCD光學系統的光譜分辨率達到9皮米。
等離子發生器激發光源：新研發的SPECTRO高效等離子發生器激發光源可以提供穩定的火花放電。采用全數字信號發生和激發過程控制，激發區域的等離子能量可以高精度、高保真輸出。由于具備了全新的激發參數設置以及高純度的信號輸出，激發光源的精度得以顯著提高。分析精度因此顯著提高，分析周期較大程度縮短。對于標準應用程序，每次分析時間不超過18秒。
分析性能
根據用戶需求，量身定制。十種標準基體鐵、鋁、銅、鎳、鈷、鎂、鈦、錫、鉛和鋅,可以與五種貴金屬基體：金、銀、鉑、鈀和釕組合配置。在 CCD 光學系統中可以實現120-780nm波長范圍內所有元素的全譜記錄。在光電管光學系統至多可以放置108個高性能光電備增管通道，每個通道配有微積分器（TRS功能）和單火花評估（SSE功能）。由此可以保證每一分析要求得滿足。配備現代化的光譜技術和高質量的組成部件，SPECTROLAB適用于各種分析要求。出眾的分析性能與高度靈活性相結合，能夠勝任諸如：過程控制分析，來料及成品檢驗，研究開發部門、檢驗檢測機構等各方面分析任務。
讀出系統
全新設計的讀出系統可以同時處理來自光電管檢測器和CCD檢測器的信號。共有22塊（加第三光學系統共37塊）CCD檢測器，每個CCD包括3800像素，類似全譜波長掃描，測量后大量數據結果可以集中顯示。這為材料研究（如未知材料判定，新合金配方等）提供了全新的分析手段。日常分析過程基于選定的光譜線，只有指定元素的信號被采集。這可以實現瞬時信號的實時采集。分析結果可以取自整個測量過程中某一時序的瞬時信號測定。根據應用要求，某些光譜線采用光電倍增管測量。光電流由微積分器處理，可以實現微秒級測量，每一單個火花放電過程可進行100次以上的步進測量，每個光電管通道的光譜峰值由步進過程描跡而成。實現這些步進過程測量以后，就可以根據需要定義測量“窗口"為其中某一時段動態范圍或信背比時段（痕量火花分析技術SAFT）,用以分析微量元素。相對于傳統的積分測量技術，現在可以測量每一單個火花的放電信號，而不是將千百次火花放電的總信號量積分成一個總量。由此實現剔除因樣品中夾雜物或氣造成的“失敗"放電信號。SSE單火花評價技術可以顯著提高分析性能。可以按照分析要求分別定義每一光電管通道的SAFT和SSE功能，也可以在一個分析周期內多次定義。這一靈活性可以在較短的分析時間內獲得較佳分析結果。