半導體清洗用超純水設備概述

　　半導體清洗用超純水設備符合工業(yè)需求，避免漏水之運轉設計，極簡易之配管及回路設計需求，提供完整之電源供應原件，可提供單一膜塊獨立電源供應，可顯示個別膜塊所消耗之電壓及安培數，膜塊設計可承受工作壓力100psi，膜塊設計可承受工作溫度45℃(113 )，高溫專用膜塊可承受工作溫度80℃(176 )，無需停機再生，影響制程，無需使用酸堿再生也無廢水排放。

　　半導體清洗用超純水設備工作流程

　　預處理——RO裝置——中間水箱——中間水泵——EDI裝置——純水水箱——純水泵——用水點。

　　半導體清洗用超純水設備優(yōu)點

　　不耗酸、堿、自動再生。

　　占地面積小，自動化程度高。

　　出水質量高且可調整。

　　單機產水量：50m3/h。

　　產水電阻：≥15MΩ.cm(25℃)。

　　適用于電廠化水、鍋爐補給水、冶金、汽車工業(yè)。

　　半導體清洗用超純水設備的工作原理

　　EDI系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質離子發(fā)生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜，陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列，構成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜)。淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜，被濃室中的陰膜截留，水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數逐漸減少，成為淡水。而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進，電介質離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達到淡化,提純,濃縮或精制的目的。

　　半導體清洗用超純水設備的應用領域

　　1、電廠化學水處理。

　　2、電子、半導體、精密機械行業(yè)超純水。

　　3、食品、飲料、飲用水的制備。

　　4、小型純水站，團體飲用純水。

　　5、精細化工、精尖學科用水。

　　6、其他行業(yè)所需的高純水制備。

　　7、制藥工業(yè)工藝用水。

　　8、海水、苦咸水的淡化。