大型單晶硅清洗用超純水設備概述

　　大型單晶硅清洗用超純水設備出水電阻可達15.0-17.0M&.CM。不用更換樹脂，EDI模塊可以穩定使用3-5年，降低耗材成本60%，多重安全保護，機箱精巧，外形美觀。全電腦控制，工作狀態顯示，全自動運轉。雙路在線式水質監測系統，液晶數字顯示。高純度水對許多工商業工程非常重要，比如：半導體制造業和制藥業。以前這些工業用的純凈水是用離子交換獲得的。 然而，膜系統和膜處理過程作為預處理過程或離子交換系統的替代品越來越流行。如電除鹽過程(EDI)之類的膜系統可以很干凈地去除礦物質并可以連續工作。

　　大型單晶硅清洗用超純水設備特點

　　1、整體化程度高，易于擴展，增加膜數量即可增加處理量。

　　2、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。

　　3、膜組件為復合膜卷制而成，表現出更高的溶質分離率和透過速率。

　　4、能耗低，水利用率高，運行成本低。

　　5、結構合理，占地面積少。

　　6、的膜保護系統，在設備關機，淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈，延長膜壽命。

　　7、系統無易損部件， 無須大量維修，運行長期有效。

　　8、設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。

　　大型單晶硅清洗用超純水設備主要用途

　　電子工業用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水。

　　制藥行業用水：制藥行業用水 　大輸液、針劑、片劑、生化制品、設備清洗等。

　　化工行業工藝用水：化工循環水、化工產品制造等。

　　電力行業：鍋爐補給水 　火力發電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動力系統等。

　　食品工業用水：飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等。

　　海水、苦咸水淡化：海島、艦船、海上鉆井平臺、苦咸水地區等。

　　飲用純凈水：房產物業、社區、企事業單位等。

　　超聲波清洗用水：電腦配件、特種材料、精密機械等要求高清潔度的超聲波清洗線。

　　電鍍行業用水：清洗工件用水，槽液用水。

　　其它工藝用水：汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細化學品等。

　　大型單晶硅清洗用超純水設備工藝流程