centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生長 Activator150

centrotherm Activator 150 高溫爐生產線專為硅-碳化合物（SiC）或鎵-氮化合物（GaN） 設備的后植入燒結而設計開發。Activator 150可用于多種類型爐體， 如研發爐和批量生產爐， 且處理靈活性高。centrotherm的無金屬加熱裝置的設計允許處理溫度高達1850°C同時縮短了工藝循環時間。由于占據空間小、購置成本低，所以Activator 150可實現生產具有成本效益。

特點：

高活化率

表面粗糙程度小

溫度達 1850°C

批量規模高達 50硅片（150mm）

加熱率達 150 K/min

通過SiH4可實現硅“過壓