HERCULES® NIL Fully Integrated SmartNIL® UV-NIL Systems

HERCULES®NIL 集成的SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)

EVG的HERCULES®NIL產(chǎn)品系列：

HERCULES®NIL集成的SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)，200 mm

HERCULES®NIL模塊化和集成式SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)，300 mm

HERCULES®NIL集成的SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)，200 mm；集成的納米壓印光刻解決方案，適用于大批量生產(chǎn)，具有EVGSmartNIL®壓印技術(shù)

HERCULES NIL是集成的UV納米壓印光刻跟蹤解決方案，適用于200 mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的新成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺，將EVGSmartNIL壓印技術(shù)與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務(wù)"，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經(jīng)過處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。

為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟郵票的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印郵票制造設(shè)備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保的缺陷率和質(zhì)量的原版復(fù)制。

通過為大批量生產(chǎn)提供NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在積NIL設(shè)備解決方案中的。 *根據(jù)ISO 14644

特征

批量生產(chǎn)小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂覆/烘烤/冷卻）和SmartNIL®

體積驗證的壓印技術(shù)，具有復(fù)制保真度

全自動壓印和受控的低力分離，可程度地重復(fù)使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化時間快

優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板

HERCULES®NIL模塊化和集成式SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)，300 mm

包含EVGSmartNIL®技術(shù)的模塊化平臺，可支持AR / VR，3D傳感器，光子和生物技術(shù)

生產(chǎn)應(yīng)用

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個集成的跟蹤系統(tǒng)，在單個平臺上將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟與EVG的專有SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結(jié)合在一起，用于直徑為300 mm的晶片。這是個基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng)，可為客戶提供的自由度來配置他們的系統(tǒng)，以地滿足其生產(chǎn)需求，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上進的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn)，包括用于增強/虛擬現(xiàn)實（AR / VR）頭戴式耳機的光學(xué)設(shè)備，3D傳感器，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備，納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。

特征

全自動UV-NIL壓印和低力剝離：多300毫米的基材

模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）100至200毫米/ 200和300毫米

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：≤±3微米

自動分離：支持的

前處理：提供所有預(yù)處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的