Centrotherm 快速熱工藝設(shè)備-RTP 150

一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介

德國(guó)Centrotherm公司是國(guó)際主流的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，尤其在高溫設(shè)備領(lǐng)域。Centrotherm RTP 150是一款快速熱工藝設(shè)備，主要用于滿足研發(fā)和小規(guī)模量產(chǎn)所需的多種工藝要求。

RTP 150型快速熱反應(yīng)設(shè)備，采用緊湊型的真空腔室設(shè)計(jì)滿足多種工藝需要，是一款可用于生產(chǎn)和研發(fā)用的單晶圓工藝設(shè)備。

RTP 150型設(shè)備包括一個(gè)帶集成壓力學(xué)習(xí)控制壓力范圍在1mbar至50mbar的真空腔室。采用燈管加熱系統(tǒng)提供了可調(diào)節(jié)的加熱均勻性控制，采用了CENTROTHERM公司技術(shù)的溫度控制系統(tǒng)。

RTP系統(tǒng)可用于6寸晶圓和5寸石墨基板的加熱。可在15分鐘內(nèi)更換基板的尺寸和類型。

設(shè)備用于、小占地面積、高工藝靈活性的工藝場(chǎng)合。

設(shè)備特點(diǎn)：

壓力可控的真空或大氣環(huán)境下工作

高靈活性：6寸硅片或其他材料

溫度范圍：20℃~1150℃

不加熱的工藝溫度可達(dá) 750℃

升溫速率可達(dá)150k/s（即150℃/秒）

每個(gè)加熱燈管獨(dú)立控制，的溫度均勻性

±℃溫度一致性

長(zhǎng)壽命加熱燈管，低維護(hù)成本

典型應(yīng)用：

金屬接觸退火

摻雜物活化

源極/漏極退火

干氧化

薄晶圓退火

設(shè)備參數(shù)：

應(yīng)用： 生產(chǎn)或研發(fā)

基板材料：硅片、GaAs、石墨、碳化硅、氮化鎵、藍(lán)寶石

晶圓尺寸：6寸

加熱系統(tǒng)：24組加熱燈，PWM控制

冷卻水： 20 L/分鐘

排 風(fēng)： 250 m3/小時(shí)

可選件：

用于溫度曲線調(diào)整的溫度測(cè)量系統(tǒng)

用于全自動(dòng)操作的雙機(jī)械手臂