離子注入設備

SiC用高溫離子注入設備 IH-860DSIC

搭載了高溫ESC（靜電吸附卡盤）的面向SiC量產用的高能粒子注入裝置。

產品特性 / Product characteristics

?可實現自動連續高溫處理注入

? 1價離子可注入至350keV、2價離子可注入至700keV

（Option：1價離子可注入至430keV、2價離子可注入至860keV）

?通過Dual-End-Station（雙工位）實現高產能；

（A系4"高溫ESC/B系3"高溫ESC、A系6"高溫ESC/B系6"常溫ESC等等，可配合客戶的希望就行規格配置）

?可減輕操作員的負擔

? 緊湊式設計

?可大范圍對應從試作到量產的各類需求

產品應用 / Product application

? 對應SiC的離子注入裝置。