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光刻 IQAlignerNT掩模對準系統(tǒng)生產(chǎn)廠家

產(chǎn)品二維碼
參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 產(chǎn)品型號：光刻
  • 品牌：
  • 產(chǎn)品類別：其他電子產(chǎn)品制造設(shè)備
  • 所在地：
  • 信息完整度：
  • 樣本：
  • 更新時間：2023-01-05 10:00:59
  • 瀏覽次數(shù)：14
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其他

  • 經(jīng)營模式：其他
  • 商鋪產(chǎn)品：522條
  • 所在地區(qū)：
  • 注冊時間：2015-02-22
  • 最近登錄：2023-01-05
  • 聯(lián)系人：紹兵
  • 電    話：18263262536

產(chǎn)品簡介

目前已有數(shù)千臺設(shè)備安裝在世界各地，被地應(yīng)用于MEMS微機電系統(tǒng)/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等領(lǐng)域

詳情介紹

目前已有數(shù)千臺設(shè)備安裝在世界各地，被地應(yīng)用于MEMS微機電系統(tǒng)/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等領(lǐng)域。

EVG光刻機主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機械系統(tǒng)（MEMS）、硅片凸點、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域，涵蓋了微納電子領(lǐng)域微米或亞微米級線條器件的圖形光刻應(yīng)用。

三、主要特點

自動的微米計控制曝光間距

的全局光強均勻度

高度自動化系統(tǒng)

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