研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570

研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發科獨chuang的磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。

產品特性 / Product characteristics

NLD用于與ICP方式相比更低壓、高密度、更低電子溫度等離子體的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工。

高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不純物的多種玻璃加工，在形狀或表面平滑性方面有的刻蝕性能。

石英及玻璃作為厚膜resist mask時的也可實現深度刻蝕（100μm以上）。

可實現高速刻蝕（石英＞1μm/min、Pyrex＞μm/min）

可追加cassette室。

產品應用 / Product application

光學器件（光衍射格子、変調器、光開關等等）、凹凸型微透鏡。流體路徑作成或光子學結晶。