可對應低速高濃度的離子注入設備SOPHI-30

低加速、高濃度對應的離子注入設備。

產品特性 / Product characteristics

?枚葉式

?可對應薄片

?非質量分離機的對比優點

1)對應低加速.高濃度的好產能離子注入設備

2)相比過去約一半的

3)相比過往設備占用面積為1/3的緊湊型設計

產品應用 / Product application

? Power Device等薄片基板工藝、IGBT工藝

產品參數 / Product parameters

?基板尺寸：Max200mm