量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800

量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視擁有擴展性的刻蝕設備。

產品特性 / Product characteristics

除單腔之外，另可搭載有磁場ICP（ISM）或NLD等離子源、去膠腔體、CCP腔體等對應多種刻蝕工藝。

為實現制程再現性及安定性搭載了星型電極及各種調溫技能。

擁有簡便的維護構造，實現downtime短化，提供清洗、維護及人員訓練服務等綜合性的服務體制。

的半導體技術研究所會提供萬全的工藝支持體制。

產品應用 / Product application

化合物（LED或LD、高頻器件）或Power device（IGBT配線加工、SiC加工）。

金屬配線或層間絕緣膜（樹脂類）、門電極加工工藝

強電介質材料或貴金屬刻蝕。

磁性體材料加工。