EVG®40 NT Automated Measurement System
EVG®40NT 自動化測量系統(tǒng)
適用于鍵合和光刻的多功能,計量
特征
EVG40 NT(獨立工具)和AVM(集成了HVM的模塊)能夠測量與光刻相關的參數(shù),例如臨界尺寸以及鍵合對準精度。由于系統(tǒng)具有很高的測量精度,因此可以驗證是否符合嚴格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)。
憑借其多種測量,EVG40 NT可以同時適應多種制造工藝,例如納米壓印光刻或晶圓間鍵合。
作為一個應用實例,EVG40 NT*了EVG的產(chǎn)品范圍,以實現(xiàn)對準晶圓鍵合,作為記錄工具,可以可靠地驗證EVG的GEMINI FB自動熔合的100 nm鍵合覆蓋精度。
特征
光刻和鍵合計量的多功能測量選項
粘接和光刻應用的對準驗證
上下顯微鏡用于多種測量
臨界尺寸(CD)測量
芯片對芯片對準驗證
多層厚度測量
垂直和水平方向的測量精度高
的校準程序可實現(xiàn)高通量
基于PC的測量和模式識別軟件可實現(xiàn)可靠性
















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