EVG®40 NT Automated Measurement System

EVG®40NT 自動化測量系統(tǒng)

適用于鍵合和光刻的多功能，計量

特征

EVG40 NT（獨立工具）和AVM（集成了HVM的模塊）能夠測量與光刻相關的參數(shù)，例如臨界尺寸以及鍵合對準精度。由于系統(tǒng)具有很高的測量精度，因此可以驗證是否符合嚴格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)。

憑借其多種測量，EVG40 NT可以同時適應多種制造工藝，例如納米壓印光刻或晶圓間鍵合。

作為一個應用實例，EVG40 NT*了EVG的產(chǎn)品范圍，以實現(xiàn)對準晶圓鍵合，作為記錄工具，可以可靠地驗證EVG的GEMINI FB自動熔合的100 nm鍵合覆蓋精度。

特征

光刻和鍵合計量的多功能測量選項

粘接和光刻應用的對準驗證

上下顯微鏡用于多種測量

臨界尺寸（CD）測量

芯片對芯片對準驗證

多層厚度測量

垂直和水平方向的測量精度高

的校準程序可實現(xiàn)高通量

基于PC的測量和模式識別軟件可實現(xiàn)可靠性