儀器簡(jiǎn)介：

　　XTU-50A是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度的鍍層測(cè)厚儀，采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì)，不但可以測(cè)量各種微小樣品，即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測(cè)量，是一款測(cè)量涂鍍層成分及厚度性價(jià)比高、適用性強(qiáng)的機(jī)型。

　　該系列儀器使用于平面、微小樣品或者微凹槽曲面深度30mm以內(nèi)的樣品涂鍍層檢測(cè)。

　　被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

　　產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

　　技術(shù)參數(shù)：

　　1. 元素分析范圍：氯（Cl）- 鈾（U）

　　2. 涂鍍層分析范圍：氯（Cl）/鋰（Li）- 鈾（U）

　　3. 厚度檢出限：μm

　　4. 成分檢出限：1ppm

　　5.小測(cè)量直徑（最小測(cè)量面積）

　　6. 對(duì)焦距離：0-30mm

　　7. 樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm

　　8. 儀器尺寸：550mm*480mm*470mm

　　9. 儀器重量：45KG

　　10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍：50mm*50mm

　　11. XY軸工作臺(tái)承重：5KG

　　應(yīng)用領(lǐng)域：

　　多元迭代EFP核心算法

　　的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合*的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子，可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

　　單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

　　多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

　　合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

　　合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過(guò)EFP算法，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)，還可分析出鎳磷含量比例。

　　重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可測(cè)量和分析。

　　如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。