概要
實時的干涉測量設備，提供蝕刻/鍍膜制程中高精度的膜厚及蝕刻溝深度檢測。單色光打在樣品表面，由于膜厚和高度變化導致不同的光路長度時，使用干涉測量法。通過循環，系統能在監控區使用實時監測的方法計算蝕刻和鍍膜的速度，在規定的膜厚和槽深來進行終點檢測。基于這個相對簡單的理論，系統不但非常穩定，并且可用于復雜的多層薄膜。
特征
- 兩種類型的激光器，可兼容大范圍的薄膜，包括SiN, SiO2, GaAs, InP, AlGaAs, and GaN.
- 生產線使用內置軟件。
- 終點檢測法的靈活應用。
- 的加工特點。
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