TN-G1100ZC高真空CVD管式爐
該儀器是一個(gè)三溫區(qū)真空管式爐主要用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等試驗(yàn)和小批量生產(chǎn)之用。主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（CVD）工藝等。
TN-G1100ZC高真空CVD管式爐
儀器的控制系統(tǒng)采用產(chǎn)品，具有操作容易，安全可靠，控溫精度高（專家PID控制），保溫效果好，溫度范圍大，爐膛溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣泵，抽真空等特點(diǎn)。
1 | 產(chǎn)品名稱 | TN-G1100ZC型高真空CVD管式爐 |
2 | 產(chǎn)品型號(hào) | TN-G1100ZC-503 爐膛尺寸：直徑50x300mm |
TN-G1100ZC-603 爐膛尺寸：直徑60x300mm | ||
TN-G1100ZC-803 爐膛尺寸：直徑80x300mm | ||
3 | 爐門結(jié)構(gòu) | 開啟式 |
4 | 上限溫度 | 1200℃ |
5 | 工作溫度 | ≤1100℃ |
6 | 加熱溫區(qū) | 三溫區(qū) |
7 | 溫區(qū)長度 | 220mm |
8 | 恒溫區(qū)長 | 100mm |
9 | 爐管材質(zhì) | 301S不銹鋼管（可選剛玉管） |
10 | 密封方式 | 不銹鋼真空法蘭 |
11 | 氣密性 | 真空法蘭和石英爐管的氣密性可達(dá)4.03x10-3Pa |
12 | 控溫方式 | 智能化30段可編程控制，自動(dòng)控溫 |
13 | 控溫精度 | ±1℃ |
14 | 加熱速率 | ≤20℃ |
15 | 加熱元件 | 硅碳棒 |
16 | 熱電偶 | K型熱電偶 |
17 | 爐膛材料 | 進(jìn)口氧化鋁陶瓷纖維 |
18 | 功率 | 2.5Kw |
19 | 電壓 | 220V 50Hz-60Hz |
20 | 系統(tǒng)真空 | 5～10Pa（需要達(dá)到其它真空度時(shí)，需選配不同的抽真空裝置） |
21 | 售后服務(wù) | 12個(gè)月質(zhì)保，終身保修 |
22 |
|
|
23 | ||
24 |
所有評(píng)論僅代表網(wǎng)友意見，與本站立場無關(guān)。