芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD

產(chǎn)品詳情
芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD

芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD (圖1)



襯底尺寸和類型：

。156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（雙面/背對背）
。高達300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（雙面/背對背）
。大批量的3D產(chǎn)品（例如：鐘表部件，珠寶，硬幣，醫(yī)療植入部件，機械部件等）
。粉末與顆粒
。Roll-to-roll, 襯底寬 300 mm
。多孔，通孔，與高深寬比（HAR）樣品


基片傳送選件：

。氣動升降（手動裝載）
。半自動裝載，用線性裝載器實現(xiàn)
。全自動轉(zhuǎn)載，用工業(yè)機器人實現(xiàn)


工藝溫度： 50 - 500 °C


前驅(qū)體 ：

。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
。前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務(wù)
。4根獨立源管線，最多加載6個前驅(qū)體源

尺寸 ：(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm



重量： 400 + 300 kg


選件： PICOFLOW™ 擴散增強器，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè)計，與工廠軟件連接服務(wù)。


驗收標(biāo)準(zhǔn) ：標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝