德國Sentech 等離子體增強原子層沉積機 PE-ALD
SENTECH基于多年研發制造PECVD和ICPECVD的經驗，包括專有的PTSA技術，推出臺PEALD設備。新的ALD設備應用SENTECH橢偏儀，使熱輔助和等離子輔助的操作和沉積過程都能得到監控。
SENTECH使用激光橢偏儀和寬量程分光橢偏儀的前沿技術——超快在線橢偏儀來監控逐層膜生長。
臺PEALD設備已經在布倫瑞克科技大學（TU Braunschweig）投入使用，用于生長超高均勻性和密度的氧化膜，如Al2O3和ZnO等。
在Al2O3沉積過程中，三甲基鋁（TMA）等離子產生的氧原子反應，襯底溫度為80到200℃。PEALD薄膜厚度均勻性高、折射率變化小的特點。
下圖是ALD與PEALD的沉積結果對比
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