這套無掩膜光刻機具有無掩模光刻技術的便利，大大提高無掩膜影印和新產品研發(fā)的效率，節(jié)省時間，是的無掩模光刻系統(tǒng)。
這款無掩模光刻機直接用375nm或405nm紫外激光把圖形寫到光膠襯底上。
無掩模光刻系統(tǒng)，無掩膜光刻機特色
尺寸：925x925x1600mm
內置計算機控制接口
激光光源：375nm或405nm
視頻輔助定位系統(tǒng)
自動聚焦設置
無掩模光刻機，無掩膜光刻機參數(shù)
線性寫取速度 gt;500mm/s
重復精度： 100nm
晶圓寫取面積：1—6英寸
襯底厚度：250微米-10毫米
激光點大小：1-100微米
準直精度：500nm
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