美國Novascan紫外臭氧清洗機PSD-UV4，PSDP-UV4T，PSP-UV8,PSDP-UV10

工作原理

PSD 和PSDP 系列產(chǎn)品通過產(chǎn)生185nm 和254nm 高強度UV光分解有機分子（污染物） 。
185nm 的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的O3臭氧分子。 254nm的光同時激發(fā)表面的有機分子， 使其更容易被臭氧分子吸收并分解。 由于臭氧分子存在時間短并且同時也被254nm光分解， 樣品臺可以調(diào)節(jié)樣品到燈管的距離來優(yōu)化性能。 PSD和PSDP分解有機污染物， 然后形成CO2和H2O蒸氣， 同時也將臭氧分子轉(zhuǎn)變成氧分子。

請根據(jù)下表選擇合適的型號和配置
紫外臭氧設(shè)備分為PSD系列（標(biāo)準(zhǔn)版） ， PSDP系列（升級版） 和PSDP系列（帶加熱功能版） 三種， 還有下面六個系列可以選擇， 配上相應(yīng)的設(shè)備尺寸4、 8、 12英寸等， 請參看詳細資料。

產(chǎn)品簡介

PSD Pro 系統(tǒng)： PSDP 系列產(chǎn)品是研究級的紫外臭氧清洗系統(tǒng)，具有 的靈活性，能滿足有機分子去除和其他眾多的應(yīng)用。可以直接在空氣中操作，或是通過其中一個進氣口通入氧氣來增加臭氧產(chǎn)生。可編程數(shù)字控制器可以控制系統(tǒng)進程，來確保 時間和優(yōu)化清洗參數(shù)。

產(chǎn)品應(yīng)用

PSD 系列清洗機常用于掃描探測顯微鏡的樣品應(yīng)用，我們的設(shè)備能用于清洗原子力顯微鏡探針，掃描探針顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)和表面上常規(guī)的油漬層和殘留的無機材料，也能用來改變物體表面的疏水性，有助于部件和表面的化學(xué)改性，經(jīng)過氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過程中保持探針的幾何形狀，削尖的探針有利于提高側(cè)向分辨率。Mycro 設(shè)備已經(jīng)用于納米技術(shù)，化學(xué)，生物學(xué)，光學(xué)，電子學(xué)，半導(dǎo)體和其他范圍內(nèi)的科學(xué)實驗室，主要用于硅，氧化硅，金屬，砷化鎵，氮化硅，云母，陶瓷，聚合物（有機玻璃），硼硅玻璃，石英，藍寶石等材料。使用 PSD 系列紫外臭氧清洗機的科研著作正持續(xù)增加。

PSD Pro 系統(tǒng)
PSDP 系列產(chǎn)品是研究級的紫外臭氧清洗系統(tǒng)，具有 的靈活性，能滿足有機分子去除和其他眾多的應(yīng)用。可以直接在空氣中操作，或是通過其中一個進氣口通入氧氣來增加臭氧產(chǎn)生。可編程數(shù)字控制器可以控制系統(tǒng)進程，來確保 時間和優(yōu)化清洗參數(shù)。

PSDP 內(nèi)置加熱盤系列
PSDP-UVT 新增加一個加熱盤，將 PSDP-UV 的能力提升到了新的水平，使
其能化的分解有機分子物質(zhì)。帶 PID 反饋回路的數(shù)字控制器能 保持熱盤
的溫度，溫度范圍可達 150 攝氏度。

和 PSDP 相同，但標(biāo)準(zhǔn)配置加熱盤
高利用率和高靈活性
適應(yīng)多用戶環(huán)境

技術(shù)規(guī)格(PSD和PSDP系列)