PVD —— 物理氣相沉積技術
2.1 PVD解釋：我們的涂層原理是 物理氣相沉積技術（即Physical Vapour Depostion，簡稱PVD）。
2.2涂層工藝是 離子鍍+濺射，故將稱為“離子濺鍍"。
東莞市久聚興納米涂層有限公司
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PVD——物理氣相沉積技術2.1PVD解釋：我們的涂層原理是物理氣相沉積技術（即PhysicalVapourDepostion，簡稱PVD）
PVD —— 物理氣相沉積技術
2.1 PVD解釋：我們的涂層原理是 物理氣相沉積技術（即Physical Vapour Depostion，簡稱PVD）。
2.2涂層工藝是 離子鍍+濺射，故將稱為“離子濺鍍"。
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