1.硅片超聲波清洗機是超聲波清洗機在電子行業的常見應用產品，目前應用廣泛的硅片超聲清洗產品多為分體單槽超聲波清洗機。
2.硅片為什么需要超聲波清洗？
半導體器件生產中玻璃硅片須經嚴格清洗，即使是微量污染也會導致器件失效。
清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。
有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。
無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴重影響少數載流子壽命和表面電導；堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電。
顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導致各種缺陷。
3.KQ系列分體單槽硅片超聲波清洗機技術參數：
型號 | 發生器體積(mm) | 清洗槽容積（mm) | 頻率（KHz) | 功率 | 加熱 | |||
KQ -1000 | 430×380×160 | 460×390×280 | 20 | 25 | 40 | 1000 | 無 | |
KQ -1000Q | 430×380×160 | 460×390×280 | 20 | 25 | 40 | 1000 | 有 | |
KQ -1200 | 430×380×160 | 580×360×250 | 20 | 25 | 40 | 1200 | 無 | |
KQ -1200Q | 430×380×160 | 580×360×250 | 20 | 25 | 40 | 1200 | 有 | |
KQ -1500 | 430×380×160 | 650×420×250 | 20 | 25 | 40 | 1500 | 無 | |
KQ -1500Q | 430×380×160 | 650×420×250 | 20 | 25 | 40 | 1500 | 有 | |
KQ -1800 | 430×380×160 | 700×450×280 | 20 | 25 | 40 | 1500 | 無 | |
KQ -1800Q | 430×380×160 | 700×450×280 | 20 | 25 | 40 | 1500 | 有 | |
KQ -2000 | 430×380×160 | 740×500×280 | 20 | 25 | 40 | 2000 | 無 | |
KQ -2000Q | 430×380×160 | 740×500×280 | 20 | 25 | 40 | 2000 | 有 | |
KQ -3500 | 460×420×180 | 按要求加工 | 20 | 25 | 40 | 3500 | 無 | |
KQ -5000 | 460×420×180 | 按要求加工 | 20 | 25 | 40 | 5000 | 無 | |
KQ -10000 | 按要求加工 | 按要求加工 | 20 | 25 | 40 | 10000 | 無 | |
注：可以根據客戶要求加工定做多槽式超聲波清洗機，配置粗洗，精洗，熱風烘干功能 | ||||||||
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