一、電子工業用超純水處理設備—LTLD-C概述

　　制備電子工業主要包括半導體材料、印刷電路板、液晶顯示器、光電器件、微電子工業以及大規模集成電路，這些領域對于用水要求都非常高，一般將電子行業用水分為五個等級，分別是1 MΩ.cm、5 MΩ.cm、10 MΩ.cm、16 MΩ.cm和18 MΩ.cm。電子工業用超純水處理設備—LTLD-C采用的制水技術，保證設備的出水水質達到18兆歐以上。

　　二、電子工業用超純水處理設備—LTLD-C工藝流程

　　電子行業制備超純水的工藝大致分成以下幾種：

　　1、采用離子交換樹脂制備超純水的其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質過濾器→保安過濾器→陽床→陰床(復床)→混床→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

　　2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質過濾器→保安過濾器→高壓泵→反滲透設備→RO水箱→混床泵→混床→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

　　3、采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質過濾器→保安過濾器→高壓泵→反滲透設備→RO水箱→(EDI)泵→保安過濾器→紫外線→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

　　三、電子工業用超純水處理設備—LTLD-C的特點

　　EDI裝置不需要化學再生，可連續運行，進而不需要傳統水處理工藝的混合離子交換設備再生所需的酸堿液，以及再生所排放的廢水。其主要特點如下：

　　連續運行，產品水水質穩定，容易實現全自動控制，無須用酸堿再生，不會因再生而停機，節省了再生用水及再生污水處理設施，產水率高(可達95%)，無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設施。

　　占地面積小，使用安全可靠，避免工人接觸酸堿，降低運行及維護成本，設備單元模塊化，可靈活的組合各種流量的凈水設施，安裝簡單、費用低廉，設備初期投資大。

　　四、EDI裝置與混床離子交換設備比較

　　EDI裝置與混床離子交換設備屬于水處理系統中的精處理設備，下面將兩種設備在產水水質、投資量及運行成本方面進行比較，來說明EDI裝置在水處理中應用的性。

　　(1)產水水質比較

　　EDI裝置是一個連續凈水過程，因此其產品水水質穩定，電阻率可達18.25MΩ•cm，達到超純水的指標。混床離子交換設施的凈水過程是間斷式的，在剛剛被再生后，其產品水水質較高，而在下次再生之前，其產品水水質較差。

　　(2)投資量比較

　　與混床離子交換設施相比EDI裝置投資量要高約20%左右，但從混床需要酸堿儲存、酸堿添加和廢水處理設施及后期維護、樹脂更換來看，兩者費用相差在10%左右。隨著技術的提高與批量生產，EDI裝置所需的投資量會大大的降低。另外，EDI裝置設備小巧，所需廠房遠遠小于混床。

　　(3)運行成本比較

　　EDI裝置運行費用包括電耗、水耗、藥劑費及設備折舊等費用，省去了酸堿消耗、再生用水、廢水處理和污水排放等費用。

　　在電耗方面，EDI裝置約0.5kWh/t水，混床工藝約0.35kWh/t水，電耗的成本在電廠來說是比較經濟的,可以用廠用電的價格核算。

　　在水耗方面，EDI裝置產水率高，不用再生用水，因此在此方面運行費用低于混床。

　　至于藥劑費和設備折舊費兩者相差不大。

　　總的來說，在運行費用中，EDI裝置噸水運行成本在1.8元左右，常規混床每噸水運行成本在3.2元左右，高于EDI裝置。因此，EDI裝置多投資的費用在1-2年內可以回收。

　　以上是電子工業用超純水處理設備—LTLD-C的相關內容。萊特萊德是一家專業生產各種超純水設備的綜合發展企業，我們是一家集研發、生產、銷售為一體的綜合發展企業，我們的設備引進的生產技術，同時結合國內水質條件，保證設備的質量和出水水質，受到用戶的。