半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。

　　制備電子工業用超純水的工藝流程

　　電子行業制備超水的工藝大致分成以下幾種：

　　1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床(復床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

　　2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床(復床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

　　3、采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

　　電子超純水設備特點

　　設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成前期預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

　　電子工業用超純水的應用領域

　　1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;

　　2、超純材料和超純化學試劑;

　　3、實驗室和中試車間;

　　4、汽車、家電表面拋光處理;

　　5、光電產品;

　　6、其他高科技精微產品;

　　三種制備電子工業用超純水的工藝比較

　　目前制備電子工業用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列于下面：

　　1、種采用離子交換樹脂其優點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環境有一定的破壞。

　　2、第二種采用反滲透作為預處理再配上離子交換設備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設備再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環境還是有一定的破壞性。

　　3、第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子(EDI)裝置，這是目前制取超純水經濟，環保用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，對環境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。

　　電子工業反滲透超純水設備工藝

　　電子工業用超純水(水中導電介質、膠體物質、無機物等簡直全部往除的水)概述

　　半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各類電子器件、微電子工業、年夜范圍、超年夜范圍集成電路需用年夜批的高純水(含鹽量在0.3mg/L以下,電導率小于0.2μs/cm的水)、超純水(水中導電介質、膠體物質、無機物等簡直全部往除的水)清洗半制品、制品。集成電路的集成度越高，對水質的請求也越高。今朝我國電子工業部把電子級水質技巧分為五個行業尺度，分辨為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分分歧水質。

　　用兩級反滲透制取

　　電子工業超純水(水中導電介質、膠體物質、無機物等簡直全部往除的水)處理(經由過程物化方法往除水中一些物質的過程)設備 采用兩級反滲透主機加EDI純水系統(電阻率請求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)(電往離子(又稱填充床電滲析EDI純水系統(電阻率請求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)/CDI純水設備(實用于制備電阻率請求很高的純水系統))(Electrodeionization)的簡稱)

　　制取電子工業超純水(水中導電介質、膠體物質、無機物等簡直全部往除的水)處理(經由過程物化方法往除水中一些物質的過程)設備