一、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H概述

　　電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的產(chǎn)水量是每小時(shí)50噸，出水水質(zhì)滿(mǎn)足工業(yè)清洗行業(yè)用水要求。電子芯片清洗用超純水設(shè)備主要由超濾設(shè)備、反滲透設(shè)備、離子交換設(shè)備、EDI裝置等組合而成。

　　二、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的優(yōu)勢(shì)分析

　　1、工藝的設(shè)計(jì)細(xì)微周到，元件的材質(zhì)、性能、設(shè)計(jì)的流量、流速、壓力等均符合國(guó)家的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范及國(guó)外材料商的規(guī)定要求。

　　2、制水過(guò)程高度自動(dòng)化，自動(dòng)進(jìn)水，自動(dòng)制水，純水箱滿(mǎn)水自動(dòng)停機(jī)，用水后自動(dòng)恢復(fù)，可實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守的運(yùn)行。

　　3、可選用可編程控制(PLC)，計(jì)算機(jī)觸摸屏控制，遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)采集及監(jiān)控等技術(shù)，使產(chǎn)品更具現(xiàn)代化特色。

　　三、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的工藝流程

　　1、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→級(jí)反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

　　2、采用EDI方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

　　3、采用離子交換方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)濾床→陰樹(shù)脂過(guò)濾床→陰陽(yáng)樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

　　四、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的技術(shù)指標(biāo)

　　(1) 脫鹽率大于99.9%，效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于兩級(jí)反滲透和單純的離子交換。

　　(2) 較傳統(tǒng)的離子交換法脫鹽節(jié)約樹(shù)脂95%以上。

　　(3) 離子交換樹(shù)脂不需使用酸堿再生，節(jié)約大量酸堿和清洗用水，降低勞動(dòng)強(qiáng)度。

　　(4) 清潔生產(chǎn)，無(wú)廢水處理問(wèn)題，利于環(huán)保。

　　(5) 自動(dòng)化程度高，易維護(hù)，可設(shè)計(jì)成的膜技術(shù)高純水生產(chǎn)線(xiàn)。

　　(6) 產(chǎn)水電阻率15-18MΩ.cm，pH 6.5-7.0，硅<1.0ppb，無(wú)菌。

　　(7) 占地面積小，單一系統(tǒng)連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)，不需建設(shè)備用系統(tǒng)。

　　五、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的水質(zhì)指標(biāo)

　　電子芯片清洗用超純水設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定，耗能低，產(chǎn)水水質(zhì)符合國(guó)家相關(guān)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。萊特萊德作為專(zhuān)業(yè)的水處理設(shè)備生產(chǎn)廠家，我們生產(chǎn)的超純水設(shè)備具有專(zhuān)業(yè)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和可靠性。萊特萊德是集設(shè)計(jì)、制造、銷(xiāo)售于一體的大型水處理生產(chǎn)廠家，我們售后服務(wù)好，品質(zhì)有保證，歡迎廣大用戶(hù)光臨選購(gòu)。