微型激光直寫光刻機是的桌面型高分辨率激光光刻系統，它通過固定連續的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結構，直寫面積高達4英寸，最小特征尺寸（寬度）可達1微米。
微型激光直寫光刻機提供豎直和掃描直寫模式，確保直接軌跡偏離小于100nm。微型激光直寫光刻機具有電動光學聚焦系統，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統裝備到襯底室供客戶選配，增強清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。
微型激光直寫光刻機兼容大多數商用光刻膠，比如SU8，shipley, AZ等，我們還對K-CL膠特別優化，用于微結構應用。
微型激光直寫光刻機特色
非常緊湊的桌面型設計
掩膜制作和激光直寫
激光光源375nm 或405nm 任選
兼容所有商用光刻膠
對比度高達1x20
自動聚焦
豎直直寫或掃描直寫模式
微型激光直寫光刻機參數
直線直寫速度 gt;100mm/s
位移臺分辨率：100nm
重復精度：100nm
晶圓直寫面積：1-4英寸
襯底厚度：150um-5mm
激光光斑大小：1um-50um
標準準直精度：1um
form factor: 10
所有評論僅代表網友意見，與本站立場無關。