產品介紹：
中小型高溫爐是工業生產與科研中常用的設備之一。目前的高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體，升溫速率慢、無法實現變溫環境模擬，且不同氣氛環境難以共用。在研的“工業級與科研級特種紅外高溫爐”，具有快速升溫、變溫模擬、定制紅外加熱波段、紅外反射涂層保溫、氣氛可調（一臺設備同時實現大氣/真空/惰性氣體等）的優點。目前美曰等國已發展出部分相關的高溫爐，我國仍是空白。
氣氛型可調高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合，并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據用戶的需要進行定制。
氣氛型可調高溫加熱裝置
儀器規格：
型號 | HCTD-1400 | HCTD-1200A | HCTD-1200B |
加熱方式 | 近紅外橢圓反射 | 紅外拋物面反射聚光 | |
溫度范圍 | RT～1400℃ | RT～1200℃ | |
熱處理區 | Φ15mm×長100mm | Φ50mm×長100mm | Φ50mm×長150mm |
均熱去（加熱時） | Φ10mm×長80mm | Φ40mm×長80mm | Φ40mm×長120mm |
冷卻方式 | 從腔內石英噴嘴噴出氣體 | ||
儀器優勢：
儀器特點：
設定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件
多步驟及循環加熱利用氣體冷卻機構的高速氣體淬火
可以簡單地從電腦上輸入溫度程序設定和外部信號
可以在電腦上顯示加熱中的溫度數據
儀器應用：
太陽能電池基板的熱處理
在氣氛環境下的熱處理
各種材料的基礎研究氣氛退火熱處理
模擬器漸變熱處理
熱循環熱沖擊試驗研究
半導體材料的燒結和工藝退火爐
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