目前我國生產(chǎn)和應(yīng)用的鉻霧抑制劑主要有：F-53鉻霧抑制劑(全氟烷基聚氧乙烯醚磺酸鉀)、FC-80鉻霧抑制劑(氟辛基磺酸鉀)、ZM-830非氟型鉻霧抑制劑等。鍍鉻液中加入0.04g/LF-53鉻霧抑制劑，就可以抑制鍍鉻過程中鉻霧逸出，與使用排風(fēng)機和鉻霧回收裝置去鉻霧相比，可節(jié)約鉻酸30%左右。

鉻霧抑制劑"是碳鏈>2的磺酰氟加工而制得。代表性的產(chǎn)物為全氟辛基磺酸四乙基銨鹽。國外代號為FC-248。它在水中的可溶性，而且可以溶于乙亞甲基磺胺等有機溶劑，外觀近乎白色的結(jié)晶，熔點在170~190℃，有很高的表面活性。以測量水狀溶液表面張力而表觀，在每公升水中加入250mgFC-248，使水的表面張力由72mN/m（即>72dyn/cm）下降到22.6mN/m，相對其他含氟表面活性劑，無論是用量和作用時間、性能。

優(yōu)良特性

鉻霧抑制劑是以Intechem系列氟碳表面活性劑配制而成，對鉻酸霧有良好的抑制效果，并且具有耐強酸、耐高溫、耐強氧化劑等優(yōu)良特性。

1、本品主要用于電鍍液的鉻霧抑制，可有效地抑制鉻霧逸出，免去排風(fēng)裝置和鉻霧回收裝置，保護操作工人的健康，此外，也可作為其他酸、堿性鍍槽或電解槽的抑霧劑。

2.1● 低鉻工藝深鍍能力提高1倍，分散能力提高30-60%。

2.2● 可使空氣中的鉻霧含量降至0.005-0.002mg/m3，低0.05g/m3標(biāo)準(zhǔn)。

2.3● 低鉻工藝電流效率提高60-110%，電流效率一般在20-30%。

2.4● 中性鹽霧試驗提高2-3級，耐腐蝕性好。

2.5● HV硬度提高30-60%，一般在HV1000-1260。

2.6● 鉻酸節(jié)約60-85%，鉻層耐磨性提高2-3倍。

2.7● 節(jié)電節(jié)能60-85%，整流器電源設(shè)備使用壽命延長一倍。

2.8● 鉻廢水濃度只有高鉻的10-20%，節(jié)約處理費用65%以上。

2.9● 無電鍍區(qū)腐蝕，無放射性污染，重金屬雜質(zhì)積累速度低。

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