EVG®620 NT

Smart NIL® UV Nanoimprint Lithography System

EVG®620NT SmartNIL®UV納米壓印光刻系統

具有UV納米壓印功能的通用掩模對準系統，采用EVGSmartNIL®技術，可達100 mm

技術數據

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而著稱，以小的占位面積提供了新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，短的掩模和模具更換時間以及服務支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對齊和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVGSmartNIL技術。

SmartNIL是的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印技術的長期前景，納米壓印技術是一種用于大規模生產微米級和納米級結構的，高產量的替代光刻技術。

*分辨率取決于過程和模板