EVG100系列勻/噴膠及顯影系統：EVG101

一、 簡介

EVG公司成立于1980年，公司總部和制造廠位于奧地利，在美國、日本和中國臺灣設有分公司，并在其他各地設有銷售代理及服務部，產品和服務遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半導體制造設備的供應商，其豐富的產品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統、基片清洗機、基片檢測系統、SOI基片鍵合系統、基片臨時鍵合/分離系統、納米壓印系統。

目前已有數千臺設備安裝在世界各地，被地應用于MEMS微機電系統/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導體器件和功率器件等領域。

EVG100系列光刻膠處理系統是一款單片處理系統，建立了光刻膠涂布和顯影方面的質量和工藝靈活性標準?？梢蕴幚?’到300mm直徑的基片、方片、甚至不規則形狀的基片，而且可以實現硅片在不同尺寸間簡單快捷的更換。除此之外，EVG100系列還可以滿足客戶硅片邊緣處理和超薄硅片涂覆的要求。

EVG100系統的設計體現了的工藝適配性，可以配置勻膠、噴膠、顯影、烘烤和冷卻模塊以適應每個客戶的生產需要。系統可匹配各種材料的不同工藝過程，如正性膠、負性膠、聚酰亞胺、薄膠層雙面涂覆、高粘度膠和邊緣保護涂覆等，非常適合于MEMS等器件的高標準涂覆要求。

二、應用范圍

應用于MEMS制造、晶圓級封裝、3D互聯工藝以及LED和光伏發電等領域。

三、主要特點

u 旋轉涂膠系統：

1. 高的基片旋轉速度，高的旋轉加速度，從而得到高的膜厚均勻性

2. 多種供膠方式，滿足不同應用的涂膠需求

3. 工藝室配備上蓋，有效控制腔室內的有機氣氛，避免了厚膠涂敷產生的“棉花糖"效應，其上集成了六個噴頭可自動清洗腔室內壁上的殘膠；

4.專有技術設計，基片旋轉速度為 10000 轉/分，旋轉加速度為40000 rpm/sec，以實現膠膜厚度高度均勻性。

u 噴膠涂覆系統：

1. 技術的膠粒過濾器和噴膠系統

2. 可編程控制的兆聲噴霧頭，可對深幾何結構進行均勻涂膠。

3. 噴膠臂轉動速度可編程，噴膠流量、噴膠頭Z軸位置及其與基片的傾斜角度均可軟件調節，從而得到高質量的深幾何結構臺階覆蓋

4. 膠液消耗低，與旋轉涂膠工藝相比，約節省膠液60%-80%。

u 集成性：

旋轉涂膠工藝和噴霧涂膠工藝可集成在一臺涂膠系統中，節省了設備成本及其占地面積，拓寬了應用范圍

u 顯影系統：

1．的工藝適應性，噴射/霧化/侵泡三種顯影方式及其結合

2. 應用兆聲顯影頭，非常適合厚膠的顯影，其具有的低沖擊力噴射工藝，同樣適用于易碎基片的顯影。

四、技術參數