Leica EM SCD500 適用于FE-SEM的高真空鍍膜儀
Leica EM SCD500是一套多功能高真空鍍膜儀，可以產(chǎn)生非常薄，顆粒極細(xì)小的金屬薄膜或?qū)щ姷奶寄ぃm用于高分辨的FE-SEM分析。
Leica EM SCD500在一個(gè)單元體系中即可實(shí)現(xiàn)很多種可選的改裝，不僅可以高真空濺射鍍膜，還可碳絲鍍膜，熱阻蒸發(fā)鍍膜及碳棒蒸發(fā)鍍膜，還可實(shí)現(xiàn)冷凍樣品制備，如冷凍干燥，冷凍斷裂/蝕刻，雙復(fù)型，冷凍鍍膜及與Leica EM VCT100相連實(shí)現(xiàn)冷凍樣品的真空傳輸。
為您帶來的優(yōu)勢(shì)
一機(jī)多配在一個(gè)單元體系中可實(shí)現(xiàn)多種可選的改裝，即通過簡(jiǎn)易改裝便可適用于不同應(yīng)用。真空樣品倉(cāng)可調(diào)換以適用不同的樣品尺寸或不同用途。 | 高真空系統(tǒng)高真空系統(tǒng)可獲得的鍍膜質(zhì)量，可選配的無油真空系統(tǒng)，使用隔膜泵可實(shí)現(xiàn)無油污染的鍍膜。 |
行星轉(zhuǎn)動(dòng)樣品臺(tái)行星轉(zhuǎn)動(dòng)樣品臺(tái)，可提供zui均一的表面鍍膜效果；旋轉(zhuǎn)及傾斜樣品臺(tái)也可獲得很好的鍍膜。 | 無級(jí)可調(diào)高度樣品臺(tái)無級(jí)可調(diào)高度樣品臺(tái)高度與予選薄膜沉積調(diào)節(jié)和保存樣本濺射參數(shù)對(duì)試樣的破壞減到zui低。 |
蝕刻裝置內(nèi)置高壓蝕刻裝置清潔表面，提高了涂層的附著力，或增進(jìn)碳薄膜的親水性 |
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