Futurrex負性光刻膠：分為粘性增強負性光刻膠、高級加工負性光刻膠、剝離處理用負性光刻膠三種。

A、粘性增強負性光刻膠

粘性增強負膠的應用是在設計制造中替代基于聚異成二烯雙疊氮(Polyioprene-Bisazide) 的負膠。粘性增強負膠的特性是在濕刻和電鍍應用時非常強的粘附力很容易用光膠剝離器去除，厚度范圍是<0.1 ~ 120.0 μm，可在i、g以及h-line波長曝光。

粘性增強負膠對生產量的影響，消除了基于溶液的顯影和基于溶液沖洗過程的步驟。優于傳統正膠的優勢：控制表面形貌的優異帶寬、任意甩膠厚度都可得到筆直的側壁、具有一次旋涂即可獲得100 μm甩膠厚度、厚膠層同樣可得到的分辨率、150℃軟烘烤的應用可縮短烘烤時間、優異的光速度進而增強曝光通量、更快的顯影，100 m的光膠顯影僅需6~8分鐘、光膠曝光時不會出現光膠氣泡、可將一個顯影器同時應用于負膠和正膠、不必使用粘度增強劑。

i線曝光用粘度增強負膠系列: NP9-250P、NP9-1000P、NP9-1500P、NP9-3000P、NP9-6000P、NP9-8000、NP-8000P、NP9-20000P.

g和h線曝光用粘度增強負膠系列: NP9G-250P、NP9G-1000P、NP9G-1500P、NP9G-3000P、NP9G-6000P、NP9G-8000.

B、高級加工負性光刻膠

高級加工負膠的應用是替代用于RIE加工及離子植入的正膠。高級加工負膠的特性在RIE加工時優異的選擇性以及在離子植入時優異的溫度阻抗，厚度范圍是< 0.1 ~ 120.0 μm，可在i、g以及h-line波長曝光。優異的溫度阻抗直至180℃、在反應離子束刻蝕或離子減薄時非常容易地增加能量密度，從而提高刻蝕速度和刻蝕通量；非常容易進行高能量離子減薄、不必使用粘度促進劑。

用于線曝光的高級加工負膠系列: NR71-250P、NR71-350P、NR71-1000P、NR71-1500P、NR71-3000P、NR71-6000P、NR5-8000.

Futurrex負性光刻膠資料.PDF：Futurrex負性光刻膠.pdf