G-25X型 紫外光刻機 產(chǎn)品簡介：

本設備是專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發(fā)的一種高精密光刻機，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

      主要構(gòu)成：

主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、曝光頭、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺和附件箱等組成。

主要功能特點：

（1）適用范圍廣適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。

（2）結(jié)構(gòu)說明：具有氣浮式找平機構(gòu)和可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。

（3）操作簡便采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實現(xiàn)真空 吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調(diào)試、維護、修理 都非常簡便。

（4）可靠性高采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用特殊的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。

（5）特設功能除標準承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平   的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題。

G-25X型 紫外光刻機 主要技術(shù)指標：

1.  設備能真空吸附5"×5"方形掩板,對版的厚度無特殊要求（1～3mm皆可）。

2.  設備能適用于Φ100mm圓形基片（或100×100mm方形基片），基片厚度≤5mm,當您的基片厚度≤1mm時，本機配置標準承片臺（不另計費），當基片厚度＞1mm時，設備需配置專用承片臺（訂貨時用戶須說明，費用另議）。

3.   照明光源：采用GCQ350Z型 壓水銀直流汞燈。

           照明范圍：≤Φ117mm；

           曝光面積：Φ100mm；在Φ100mm范圍內(nèi),曝光不均勻性≤±3%；

           曝光強度：≥5mw/ cm²（此指標用紫外光源I線365nm測量）。

4.  本設備采用進口時間繼電器控制氣動快門，動作準確、可靠。

5.  本機為接觸式曝光機，但可實現(xiàn)：

a.  硬接觸曝光：用管道真空來獲得高真空接觸，真空≤-0.05MPa。

b.  軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間。

c.  微力接觸曝光：小于軟接觸，真空≥-0.02MPa。

 6.  曝光分辯率：本設備硬接觸曝光的分辨度可達1μm以上。

 7. 對準：觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭，通過視屏線連接到顯視屏上。