AZ®nLOF 2000系列電子束光刻膠，通過可調節的方式顯影后使暴露的光刻膠保留下來。負輪廓及其高軟化點使AZ®nLOF 2000成為適用于剝離工藝以及其他任何需要具有高的熱穩定性光刻膠結構的工藝。

特征：
1) 的熱穩定性：250°C以上溫度不易變形；
2) 高度的化學穩定性
3) 電子束靈敏度可將快紫外和高分辨率電子束光刻技術結合起來。
4) 分辨率0.5um lift off 負性光刻膠，耐特高溫；可用于RIE工藝


顯影液
AZ ® EBR溶劑是用于稀釋和邊緣珠去除AZ的溶劑（PGMEA）去膠劑不含NMP,與所有常見的基材兼容，甚至可以溶解交聯的AZ®nLOF 2070光刻膠膜 ；

去膠劑
通常，在非常厚或強烈交聯的光刻膠膜的情況下，可能需要將這些去除劑加熱至60-80°C，或進行超聲波處理，以加快去膠速度。

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