概括

SU-8 3000是一種高對比度，基于環氧的光刻膠，專為微加工和其他微電子應用中，

需要化學和熱穩定的圖像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改進配方，已被廣泛采用

由MEMS生產商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附著力和降低涂層應力。

SU-8 3000的粘度范圍允許膜厚為4至單層涂層厚度為120 µm。

特征

?提高附著力

?降低涂層應力

?高縱橫比成像

?垂直側壁

?單層涂膜厚度大于100mm

?出色的抗干蝕刻性

SU-8 3000抗蝕劑經過專門設計，可與MicroChem的SU-8顯影劑一起用于浸漬，噴涂或噴漿工藝。 也可以使用其他基于溶劑的顯影劑，例如乳酸乙酯和雙丙酮醇。 對于高縱橫比和/或厚膜結構，也建議強烈攪拌。 表6中給出了浸入過程的建議顯影時間。這些顯影時間是近似的，因為實際溶解速度會隨著攪拌而變化很大。

SU-8 3000具有良好的機械性能。 但是，對于要保留成像的抗蝕劑作為最終設備一部分的應用，可以在加熱板上或對流烤箱中在150-200°C之間將抗蝕劑進行坡道/分步硬烘烤，以進一步使材料交聯。 烘烤時間根據烘烤過程的類型和膜厚的不同而不同。

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