次大氣壓輝光放電處理機 產品概述：

該產品在次大氣壓下輝光放電的視覺特征呈現均勻的霧狀放電，放電的電流電學特征為單脈沖，放電溫度為室溫。次大氣壓輝光放電可以處理各種高分子材料、生物材料、金屬材料、紡織品材料、異型材料。設備成本低、處理的時間短、可加入各種氣氛，氣氛含量高、功率密度大、處理效率高。可應用于表面聚合、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和的表面處理。電子和離子的能量可達10eV以上。材料批處理的效率要高于低氣壓輝光放電10倍以上。
      主要應用于表面清洗、改善復合材料粘附性、細胞培養皿,組織培養皿的親水、生物傳感器的表面處理。

次大氣壓輝光放電處理機 技術參數：

1）處理溫度特別的低，比環境溫度只高 2～3 度；

2）沒有任何金屬污染；

3）處理氣壓是幾千帕，氣氛濃度高；

4）設備壽命長。

5）主要技術指標：

（1）型號：HPD-280；

（2）電源：單相 AC220V（±10%）；

（3）功率：1000VA；

（4）脈沖頻率：20KHz；

（5）放電功率：150W（2000Pa）；

（6）電極尺寸：170mm×170mm；

（7）兩電極的間隙：10mm~60mm；

（8）設備尺寸：660(W)×420(H)×520(D)mm；

（9）設備重量：50kg；